第二百四十四章 制裁?那就搞x光刻機!

請關閉瀏覽器的閱讀/暢讀/小說模式並且關閉廣告遮蔽過濾功能，避免出現內容無法顯示或者段落錯亂。

【fbi突然出動，抓住了潛伏其內十年的臥底。】

【fbi抓住一名臥底，疑似華國人？】

【近日fbi抓住一名臥底，在庭審前日晚畏罪自殺】

【臥底自殺？還是另有原因！】

……

一條條相關的新聞，開始爭搶起了各種頭條。

這樣的新聞，不得不引起人們的注意，臥底？

還有臥底畏罪自殺？

對於這樣的訊息，每個看到的人都感到震驚。

華國國內，在網路上討論的人也很多，都不知道這個臥底是否真的是他們的人。

畢竟這些都只是從國外傳出的訊息，沒有人知道詳情。

而相比較這個政治上的事情，對於半導體界人來說，卻更加關注另外一條訊息。

國外的制裁技術又加上了幾條，一條，準鐳射發射器。

這個東西，是光刻機光源中十分必要的一個部件。

其主要就是利用二氧化碳鐳射器發射出極高能的鐳射，輸出超過30kw平均功率的鐳射束，脈衝峰值最高可達幾兆瓦，然後如此高能的鐳射，擊打在不斷從上方滴下的錫珠上，然後使其發射出波長為13.5nm的極紫外光。

而想要在二氧化碳鐳射器上實現如此高的功率，普通的技術完全行不通，而華國當前的二氧化碳鐳射器在功率上並不能達到這種要求，而需要知道的是，這個功率，最終影響的就是euv光源的實際功率。

如果euv光源沒有足夠大的功率，對他們的影響，十分之大。

此外，還有其他幾種euv光源中較為重要的感測器也遭到了制裁。

這樣一來，他們再想要研發光刻機，就必須先在這些方面實現突破，否則光源搞不出來，全部都白搭。

一時之間，華國半導體界，又掀起了一片唱衰的聲音。

要是繼續一個一個地搞下去，他們得花多少時間？

到時候國外說不定早就找到了能夠突破現有光刻機的技術了。

而除了這些和光刻機技術有關的東西之外，國外又在原材料之一的光掩膜版上面進行了制裁，光掩膜版是光刻流程中同樣十分重要的東西，只有透過掩膜版，極紫外光才能實現直接光刻。

而現在主流掩膜版中，都是以石英作為材料的，而這次主要制裁專案，就是這種石英材料，而這種石英材料的生產工藝難度十分高，國內一直都需要進口國外的。

而現在他們買不了石英材料了，就等於說國內掩膜版廠商，全部都直接廢了。

這幾招下來，國內半導體產業鏈便再一次遭到了重創。

……

“媽的，那幫洋鬼子，肯定是看我們又搞出了頂級的鏡面拋光技術後，想出來的壞事情，真是太不要臉了！”

定光研究所，林曉的辦公室中，羅明憤憤不平地說道。

但林曉卻只是靜靜地坐在自己的辦公桌前，思考著問題。

而羅明還氣不過，繼續說道：“他們還抓了一個臥底，聲稱是我們的人，然後還宣傳他在監獄裡面上吊自殺？明顯就是再給我們示威呢！監獄裡面能剛好有個繩子讓人上吊嗎？”

“呸，噁心！”

而聽到羅明這麼說，林曉卻是眉頭一皺：“臥底？上吊自殺？”

“是啊，國外的訊息，都傳回來了，簡直是太可惡了！”

羅明無比氣憤地說道。

但是林曉卻倏然站了起來。

臥底？

然後恰好在這個時間節點被發現？

他的記憶力很好，同時聯想能力也很強，他立馬想到了當初沃爾夫獎的事情。

不就是有國安