第二百四十章 八月:產量提高26倍

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“呼~”

腦海中緩了一會兒後，林曉便感覺自己的思維重新恢復了清晰。

這一次提高的大腦開發度還不到本來的十分之一，對他本身的負擔並不大，只是稍微有一些頭暈罷了，等了一會兒後，這種眩暈感便逐漸消退了。

此時此刻，他再次抬頭看向周圍的環境，便感到周圍的一切彷彿都在他的把控之中，甚至他能夠將整個房間直接建立成為了一個3d模型，然後放在自己的大腦中，並且甚至能夠直接對這個模型進行改變。

此外，他甚至感覺自己現在能夠輕鬆地對八位數數字進行質數分解。

同時，他感覺自己對於物理的理解似乎也更近了一步。

本來，他因為之前提出了多維場論，而從系統那裡得到了一個【物理大師光環】，這個光環對他的加成還是很高的，這也是為什麼他有自信對光刻機來動手。

而現在他物理學又提升到了5級，這讓他更有信心將這個時間縮短了。

“甚至……euv光刻機也不是什麼問題，似乎x光刻機，也能行？”

林曉的腦海中忽然浮現出了這個想法。

x光刻機，指的便是用x光作為光源的光刻機。

x光的波長比極紫外光更短，能夠更加容易地去生產先進製程晶片。

並且這種光刻機有一種優點，那就是它的光源是直接照射在晶片底上的。

這種曝光方式便叫做直寫式。

而euv光刻機的光源中，euv光源是經過十幾塊鏡片的各種折射，最後透過掩膜版上面的圖案，以投影的方式在晶片上形成晶片的。

這也就是說，x光刻機不需要光掩膜版就能使用，同時它對透鏡系統的要求很低，僅僅只對透鏡表面光滑度有一點要求而已。

此外，euv光源在經過十幾次光學鏡片的折射後，原有光源的能量也會大大遭到削弱，原來的100%，到最後能量可能只會剩下不到3%，這也是為什麼對euv光源的要求就是功率足夠強，不然的話，華國也不可能在光源上實現不了突破，畢竟方法都知道，不可能造都造不出來。

而x光刻機就不同了，因為是直寫式，不需要經過鏡片折射，所以根本不用擔心光源功率不足的問題，反倒要擔心的是曝光時間稍微長了一點，反倒會影響到最終的效果。

當然，x光優點很多，但同樣也有缺點。

那就是相比較euv光刻機來說，光刻效率比較低，在實現大規模生產上比較困難，這也是為什麼x光刻機沒有佔據主流的原因，雖然到現在也仍然再用，不過並不是那麼引起人們的關心。

不過，這個問題林曉自然是考慮到了，而他覺得x光刻機能搞，便是因為他剛才閃過的靈感，讓他有了一個實現x光刻機大規模生產的方法。

那就是利用衍射效應。

x光是能透過晶體進行衍射的，並且一般來說，晶體結構基本上是利用x光衍射來測定的。

但是反過來說，如果選取合適的晶體材料作為透鏡，然後利用衍射效應實現對x光的縮放，進而就能實現像euv光刻機那樣的生產效率，在加上x光那強大的能量，實現更加快速的生產效率，十分的輕鬆。

當然，其中就有一個困難的問題了，那就是這個合適的晶體是什麼，此外，利用衍射效應實現對x光的控制，其中需要處理的資料十分龐大。

所以到現在雖然也有利用這種衍射效應去實現晶片製造的，但是基本上都僅限於一些特殊的圖形，應用案例十分之少。

對於林曉來說，他也僅僅只是這麼想一想。

雖然現在的他還有一點把握，但是要是他給外界的人說自己要搞x光刻機的話，恐怕他們華芯盟第