第564頁

請關閉瀏覽器的閱讀/暢讀/小說模式並且關閉廣告遮蔽過濾功能，避免出現內容無法顯示或者段落錯亂。

所以老黃那邊應該是最後一站才對。

按理說該輪到他們這邊了。

咋就被略過去了？

是自己哪裡做的不好？

王主任開始反思。

想起了前幾天餘明城傳達的工作指示。

那或許，不該簡單的復刻這些光刻機，更重要的是得有自己的專利？

行吧。

隨便領導什麼時候來視察吧。

他先安排人，把這交代下來的任務捋清再說。

南雁的耳報神很快就帶來了訊息。

半導體研究中心那邊開始進行光刻機的相關研究。

這個訊息讓南雁笑了起來，行，她改天有空去半導體研究中心那邊一趟。

王主任完全沒想到，他這邊不期待人來了，準確點說想著拿出點說得過去的東西後，再等著人過來。

結果領導冷不丁的過來了。

猝不及防啊。

「我就是過來看看。」南雁對機械還算懂行，但光刻機這可不止是機械，涉及到了光化學種種，她雖說知道一些關鍵性的知識。

但眼下壓根派不上用場。

提了也沒用。

光刻機的發展歷程大概可以分為五代。

接近式光刻機、分步重複式等倍投影光刻機、步進式縮小投影光刻機、步進掃描式投影光刻機以及日後大殺四方的極紫外光刻機即euv光刻機。

六十年代和七十年代前半段是接近式光刻機的時代，儘管後來出現了漸進式光刻機，但因為技術緣故，良品率低，這導致晶片成本居高不下。

就連美國軍方都覺得貴。

提高良品率顯然很有用。

想要提高良品率，不外乎兩個途徑，一來提高晶圓也就是多晶矽的純度。

二來則是提高光刻機的效能。

無線電廠這邊選擇的是提高晶圓的純度，這當然無可厚非。

甚至可以說，掌握了這一技術，不管何時都能夠保證絕對的晶圓純度，在眼下比提高光刻機效能更具有價效比。

試想，國內光刻機遠遠落後於日本，現在還在使用接近式光刻技術卻能夠達到和日本半導體一般無二的良品率，可以想像晶圓純度的提升有多牛掰。

但只有這個技術還不夠。

畢竟提升晶圓純度的方法是多樣的，說不定哪天日本也掌握了其他方法提高晶圓純度。

到那時候這專利也不再具有獨一無二性。

咋辦呢？

所以提高光刻機的效能是必備選項。

一口吃個大胖子不可能，再說現在的技術也遠遠沒達到二十世紀末的標準。

極紫外光刻技術這個殺手鐧與這個時代格格不入。

國內半導體裝置想要發展，也得循序漸進的來。

事實上在七十年代，還是矽谷那邊的半導體廠商在打架，日本半導體產業遠沒有那麼強有力的競爭力。

麻薩諸塞州的perk elr率先搞出了投影式光刻機icralign100，讓晶片不再那麼貴不可攀。

幾年後，gca公司又推出了步進式光刻機dsw4800。

從特曼教授寄來的雜誌中不難看出，這臺步進式光刻機有著更先進的製程，更高的良品率以及提供更高的晶片效能。

pe的市場被gca蠶食。

而在亞洲，日本的尼康和佳能這兩個光學行業的佼佼者也才剛剛入局半導體裝置行業。畢竟此時的光刻機技術還沒有那麼精細，光學行業的頂流用一星半點的技術，就足以追趕眼下的光刻機時髦。

一水之隔的中國，想要追上這腳步卻並不輕鬆。